应用技术

我们提供完整的精密流体输送解决方案，包括质量流量控制器、液体质量流量计和液体材料气化器等核心设备。这些设备能够实现工艺气体和液态化学品的精确计量与控制，为CVD、刻蚀等工艺的重复性与良率奠定坚实基础。

液体材料气化器将液态前驱体较均匀地转化为工艺气体，是薄膜沉积（如金属CVD）工艺的关键组件。我们的气化器具有较好的气化效率和温度控制能力，有助于提升工艺过程的稳定性与一致性。

我们的智能真空与压力控制系统通过压力控制器、压力控制阀、硅片背压控制器等设备的联动，实现对工艺腔室压力的闭环控制，有助于保持各批次工艺条件的一致性。

硅片背压控制器可优化晶圆与静电吸盘间的热传导，有助于改善晶圆工艺温度的均匀性，适用于刻蚀与PECVD等工艺。电容薄膜压力规和真空规提供从粗真空到中高真空的精确压力测量数据，是过程控制和系统监控的重要部件。

四极杆质谱仪能够实时"嗅探"并分析腔室内的气体成分，用于工艺开发、终点判断、故障诊断与质量控制，是提升工艺水平的智能工具。IR-400红外温度计提供非接触式实时监测晶圆温度，为对温度敏感的热处理工艺提供精确的温度数据反馈。

我们的监控系统能够洞察工艺细节，助力产品品质管理与可追溯性，为工艺优化和质量控制提供数据支持。

真空工艺腔室提供核心的工艺反应空间，可根据工艺需求进行定制。真空泵为整个系统提供洁净的真空环境，支持工艺稳定运行。真空隔离阀、管道、法兰构成密封性较好的真空管路系统，便于设备的模块化与维护。

我们的真空系统核心组件采用工业级设计，具有较好的抗干扰能力和稳定性，为各种精密工艺提供真空环境支持。